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磁增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

儀器型號:ME-3A

購置年月:20126

儀器簡介:

ME3A型多功能機(jī)既可作反應(yīng)離子刻蝕(RIE),又可作磁增強(qiáng)反應(yīng)離子刻蝕(MERIE),且轉(zhuǎn)換十分方便(只需撥一下開關(guān)),由于有磁場的作用,它在較高真空度(< 1Pa)下亦可起輝并穩(wěn)定工作,因此,它不僅可用于常規(guī)的半導(dǎo)體干法刻蝕,還特別適用于亞微米和邊沿陡直圖形的刻蝕,使用不同的氣體,它可刻蝕Si3N4SiO2、磷硅玻璃、Si、polySiW、WSi、Mo、石英、鈮、正、負(fù)光刻膠、聚乙酰亞胺等材料。該機(jī)型具有六路進(jìn)氣入口(其中二路用于氣路清洗),采用4個質(zhì)量流量計(jì)控制氣流流量,因此重復(fù)性好,可自動控時。另外,該機(jī)預(yù)抽真空的時間很短(3~5分鐘),工作效率高,操作簡單。

應(yīng)用范圍:

不僅可用于常規(guī)的半導(dǎo)體干法刻蝕,還特別適用于亞微米和邊沿陡直圖形的刻蝕。

技術(shù)參數(shù):

1. 射頻功率:10-500(可調(diào))

2. 真空系統(tǒng):110/秒分子泵機(jī)組

3. 均勻性:±5% (4英寸內(nèi))

4. 反應(yīng)室尺寸:內(nèi)徑300 mm

5. 整機(jī)尺寸:1.06×0.7×1.32 m3